產品型號
MSD-200D廠商性質
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2026-06-20瀏覽次數
2477產品描述
桌上型自動顯影機MSD-200D主要應用于曝光后的顯影工藝。該設備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、以及供液系統、主軸系統、控制系統及排液系統等組成，整機采用框架結構，外表為鏡面不銹鋼，無塵且不吸附顆粒，工作方式為手動上下片，自動完成顯影工藝。 桌上型成像儀顯影單元基片采用真空吸附加四周擋板固定方式，采用進口伺服電機，保證轉速、加速度、控制精度高，重復性好；供液系統采用廠務或者壓力容器直接供液方式。
產品型號
MSC-75T廠商性質
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2026-05-11瀏覽次數
2375產品描述
鈣鈦礦旋涂儀應用：在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。應用：在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。
產品型號
MSC-200T-D廠商性質
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2468產品描述
自動滴膠勻膠機，MSC-200T-D桌上型半自動旋轉涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰、光柵、ITO、掩模版等基片上形成薄膜，主要應用于6、8寸晶圓及方形樣品。將基材涂上一層特定的光刻膠、感光涂料或油墨， 取出后在進行后道烘干工藝。
產品型號
MSC系列廠商性質
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2130產品描述
勻膠機設備簡介： 桌上型旋轉涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應用于12寸以內樣品。
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MSC-75T廠商性質
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1768產品描述
桌上型旋轉涂布機應用：在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。應用：在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。
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