實驗室無掩膜曝光機

簡要描述：實驗室無掩膜曝光機
CG-MLC6系列直寫光刻機是一款精巧型光刻產(chǎn)品。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù)，無需掩模版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上。CG-MLC6系列直寫光刻機功能靈活、體積小、性價比高，專為各高校、實驗室及研究機構(gòu)量身打造。其主要應(yīng)用產(chǎn)品包括各類MEMS制作（如MEMS麥克風、壓力傳感器、加速度計、陀螺儀、超聲波傳感器、壓電傳感器）、掩模板制作等。

Name: 實驗室無掩膜曝光機CG-MLC6
Brand: 重光
Availability: InStock

基礎(chǔ)信息

產(chǎn)品型號

CG-MLC6

廠商性質(zhì)

生產(chǎn)廠家

更新時間

2026-06-20

瀏覽次數(shù)

2457

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

光刻機

查看全部產(chǎn)品

硅片上的光影縮印術(shù)——投影式光刻機工作原理與集成電路芯片制造應(yīng)用

淺析無掩膜光刻機的工藝流程及養(yǎng)護

激光直寫光刻機：基于激光光源的無掩膜光刻設(shè)備

詳細介紹

品牌	重光

實驗室無掩膜曝光機產(chǎn)品特點：

數(shù)字光刻系統(tǒng)

微納器件無掩模版直寫光刻

光掩模版制作

3D結(jié)構(gòu)曝光功能

自動對準功能

用戶自定義標記對準功能

可視化定點曝光功能

自動聚焦功能

不規(guī)則樣片曝光

快速、精細兩種曝光模式

支持多種數(shù)據(jù)格式（GDSⅡ/ Gerber/ O DB++）

背部對準功能（選配）

405nm LD光源（375nm可選）

實驗室無掩膜曝光機參數(shù)：

型號	CG-MLC
型號	ModeⅠ	Mode Ⅱ	Mode Ⅲ
最小特征尺寸	0.5μm	1μm	2μm
最小線寬線距	0.8μm	1.2μm	2.5μm
CD均勻性	10%	10%	10%
兩層對位精度 5x5m㎡	500nm	800nm	1000nm
兩層對位精度 50x50m㎡	800nm	1000nm	1500nm
產(chǎn)能	50mm2/min	100mm2/min	300mm2/min
最小基板尺寸	5mm x 5mm
基板厚度	0.1 - 12mm(可選)
曝光面積	150mm x 150mm
灰度曝光	可選128階
曝光光源	Laser, 405nm or 375nm

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