一、 產(chǎn)品定位與核心功能

　　合肥重光電子科技有限公司推出的CG-MLC6系列直寫光刻機(jī)(無掩膜光刻機(jī))是一款面向高校、實(shí)驗(yàn)室及研究機(jī)構(gòu)的設(shè)備。

　　核心技術(shù)：采用數(shù)字光刻技術(shù)，免除掩模版制作環(huán)節(jié)，將版圖信息直接轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上。

　　主要應(yīng)用：

　　各類MEMS器件制作(如麥克風(fēng)、壓力傳感器、加速度計(jì)、陀螺儀、超聲波傳感器、壓電傳感器)。

　　掩模板制作。

　　微納器件無掩模版直寫光刻。

　　3D結(jié)構(gòu)曝光(支持128階灰度曝光)。

　　特色功能：具備自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)、用戶自定義標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)、可視化定點(diǎn)曝光、自動(dòng)聚焦、不規(guī)則樣片曝光、背部對(duì)準(zhǔn)(選配)等功能。支持快速與精細(xì)兩種曝光模式，以及GDSⅡ、Gerber、O DB++等多種數(shù)據(jù)格式。

　　二、 關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)對(duì)比(CG-MLC6系列子型號(hào))

　　該系列設(shè)備提供三個(gè)子型號(hào)(Mode Ⅰ、Mode Ⅱ、Mode Ⅲ)，主要差異體現(xiàn)在精度與產(chǎn)能上，便于用戶根據(jù)自身工藝側(cè)重點(diǎn)選擇。

　　最小特征尺寸

　　Mode Ⅰ：0.5 μm

　　Mode Ⅱ：1 μm

　　Mode Ⅲ：2 μm

　　最小線寬線距

　　Mode Ⅰ：0.8 μm

　　Mode Ⅱ：1.2 μm

　　Mode Ⅲ：2.5 μm

　　CD均勻性：三個(gè)子型號(hào)均為10%。

　　兩層對(duì)位精度(5x5 mm²區(qū)域)

　　Mode Ⅰ：500 nm

　　Mode Ⅱ：800 nm

　　Mode Ⅲ：1000 nm

　　兩層對(duì)位精度(50x50 mm²區(qū)域)

　　Mode Ⅰ：800 nm

　　Mode Ⅱ：1000 nm

　　Mode Ⅲ：1500 nm

　　產(chǎn)能

　　Mode Ⅰ：50 mm²/min

　　Mode Ⅱ：100 mm²/min

　　Mode Ⅲ：300 mm²/min

　　共性參數(shù)：

　　曝光光源：Laser, 405nm (375nm可選)。

　　曝光面積：150mm x 150mm。

　　基板尺寸范圍：最小5mm x 5mm，厚度0.1 - 12mm(可選)。

　　三、 公司背景與服務(wù)模式

　　了解設(shè)備廠家的技術(shù)支持和商業(yè)模式，有助于評(píng)估長期合作可行性。

　　公司性質(zhì)：合肥重光電子科技有限公司定位為儀器設(shè)備的生產(chǎn)商，業(yè)務(wù)聚焦于太陽能電池和半導(dǎo)體等領(lǐng)域。

　　技術(shù)合作：公司與中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)微納加工平臺(tái)、合肥工業(yè)大學(xué)微納加工平臺(tái)保持技術(shù)交流，能夠協(xié)助客戶解決工藝問題。

　　特色服務(wù)：

　　定制化代工：提供自營品牌的代工業(yè)務(wù)，支持客戶實(shí)現(xiàn)資產(chǎn)輕量化運(yùn)營。

　　定制化研發(fā)：滿足客戶多樣化需求，提供定制化服務(wù)。例如，其低速勻膠設(shè)備可處理低粘度光阻的勻膠工藝，改變以往依賴特定進(jìn)口品牌的情況。

　　四、 綜合對(duì)比小結(jié)

　　基于現(xiàn)有資料，對(duì)合肥重光CG-MLC6系列無掩膜光刻機(jī)進(jìn)行特性歸納：

　　適用場景明確：專為科研和小批量、多品種的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境設(shè)計(jì)。其體積小、功能靈活、性價(jià)比較高的特點(diǎn)，適合高校及研究機(jī)構(gòu)用于MEMS、傳感器、掩模版等領(lǐng)域的研發(fā)。

　　技術(shù)參數(shù)階梯化：通過三個(gè)子型號(hào)(Mode Ⅰ/Ⅱ/Ⅲ)覆蓋從亞微米(0.5μm特征尺寸)到微米級(jí)(2μm特征尺寸)的加工需求。用戶可根據(jù)對(duì)精度(對(duì)位精度、線寬)和產(chǎn)能(曝光速度)的具體要求選擇對(duì)應(yīng)配置。

　　特色工藝能力：支持128階灰度曝光和3D結(jié)構(gòu)制作，為微透鏡、微棱鏡等非平面結(jié)構(gòu)加工提供了工具。同時(shí)具備背部對(duì)準(zhǔn)、不規(guī)則樣片曝光等實(shí)用功能。

　　服務(wù)與支持側(cè)重：公司提供從設(shè)備定制、代工生產(chǎn)到工藝咨詢的服務(wù)鏈條。與本地高校微納加工平臺(tái)的技術(shù)交流網(wǎng)絡(luò)，或能為客戶在工藝開發(fā)階段提供實(shí)際協(xié)助。

　　選擇參考：在選擇無掩膜光刻機(jī)時(shí)，可重點(diǎn)比較最小特征尺寸、對(duì)位精度、曝光面積和灰度曝光能力是否滿足當(dāng)前及未來2-3年的實(shí)驗(yàn)需求。合肥重光的產(chǎn)品線提供了從0.5μm到2μm特征尺寸的三個(gè)精度等級(jí)，并保留了375nm光源選配、背部對(duì)準(zhǔn)等擴(kuò)展選項(xiàng)。